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在湖山接下来一周多时间，胡一亭全身心投入闪存颗粒设计之中。

因为湖研院研发的三项目前国际领先的新技术技改已经有了初步成果，所以之前对闪存颗粒进行了第一轮工程流片，已经拿出了数量极少的工程样品，但目前湖研院的实验室0.35微米制程还不成熟，尝试实验流片下，良品率低的要死，连续做了五张晶圆后经测试只得到11片合格产品。

但好在只要有了样品就会让讲解变得直观，胡一亭可以就样品对湖研院和从北都央研院赶来参与研发的诸多工程师们进行有针对性的解释，其中就有刚刚硕士毕业加入重光进行博士实习的曹玉暖，和已经在湖研院驻扎了一个星期的赵赫等北都赶来的芯片设计人员，当然还有从成光所过来的专家们，而还未离开湖山的马所也在其中，得知胡一亭今天要对国内第一次0.35微米工程流片进行技术讲解，他特意推迟了回成都的日程。

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