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随着玻璃门的关闭，投影大屏幕上的画面顿时一转，镜头切换到光刻机的内部。

此时此刻，画面中的光刻机开始运行光刻程序，左边的激光头挪动位置，自动校准，找到原始点。

紧接着，激光头开始工作，给工作台上的硅晶圆片曝光。不过是10秒左右，激光头迅速抬起，工作台开始轮换了。

左边的工作台转换到右边，左边的激光头再次降落、定位和曝光。而右边的激光头也开始工作，正在检验右边工作台上的硅晶圆片。

这就是双工作业的方式，可以缩短光刻机一半左右的时间。

按照光刻机电脑屏幕上显示的时间来看，这台KrF光刻机只要22秒钟就可以曝光一片硅晶圆片。

这种速度，全球也没有哪一台光刻机能做到。

嘶……

会议室里，sematech联盟的高级官员们，此时都傻眼了。

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