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杨森平他们在国产光刻机上的研究，是从最初的毫米工艺向微米发展，在到如今的纳米级。

但却始终被海外的技术远远甩在后面。

现在华科院哪怕取得了重大技术突破，也仅是才达到28纳米水平。

距离海外的5纳米芯片相差甚远。

毕竟芯片的制造规格每提升一个小层次，研发难度都是呈数倍增加，如果依旧按照原来的方式攻克技术，恐怕等国产光刻机能生产14纳米或者7纳米芯片的时候,人家已经实现3纳米工艺了。

依旧会落后于人。

所以徐磊才会要求杨森平把之前的研发进度彻底推翻。

直接从硅基芯片的物理极限1纳米开始。

如此国产顶级光刻机技术将获得全球半导体市场的霸主地位，并且在未来很长一段时间都不用担心再被反超。

因为徐磊通过对博物馆中极紫外线光刻机展品所涉及到的技术知识研究，要想生产出硅基芯片的物理极限1纳米芯片，需要用到一种比较特殊的金属。

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