杨杰提前把沉浸式光刻技让瑞星科技公司研发出来就是为了为懂得决国内现阶段在半导体技巧整体不足的情况。

现阶段瑞星科技公司自工件台上的运动精度只能把持在4纳米，制作出来的光刻机只能保证极限制程工艺保持在90纳米的，而三阳光学公司自己现在制作出来的镜片光学数值孔径只能达到0.5，间隔德国蔡司制作出来的镜组0.7还是有不小的间隔。

不过今年上半年机床研究院的超高精度设备研发部分会推出超高精度的数控磨床，到明年初三阳光学公司应当能生产出更高数值孔径的镜组出来。

瑞星科技公司在光刻机跟刻蚀机的设计跟系统整合方面这些年已经逐步成熟了，这让杨杰有信心在明年就可以大批量的生产出沉浸式光刻机出来，到时候可以大幅地降低国内晶圆厂的建设本钱。

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