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光刻机的对准系统的精度，对光刻机的芯片曝光有很大的影响。

目前国内的对准系统研究的精度，勉强可以应用要1.5微米的制造工艺上。

不过，要特别注明的一点就是，在欧美日，此时已经实现了光刻机上的自动对焦，而国内只能是手动对准。

别人的光刻机，单位时间能曝光两百多块晶圆片，而国产的只能曝光十几块。

这意味着我们自家生产的，只能在实验室里用用，无法投入到商业应用当中，不然，这成本就能拖死一家芯片加工厂。

而对准系统自动化，涉及到伺服电机，光电反馈，空气轴承，机动补偿，ccd对焦成像等一系列的需要攻关的项目。

而在精密机械加工上，德、日无疑是站在全世界顶尖的位置。

王岸然希望在国际范围内，寻求广泛合作，不过，任何合作不是单方面的意向，华芯科技需要做更多的情报工作……

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