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“不管这些了，我有两个方法来提高DUV光刻机的制程，再说一遍，这两个方法先期不能申请专利，而且要超级保密。光刻机的演进过程就是光源改进和工艺创新。第一个方法就是缩短波长。但193nm波长可以说是极限了，157nm波长就是个坑。

那怎么缩短波长呢，答案就是改变光的传输介质，现在光刻胶和曝光镜头之间的介质是空气，我们需要把空气换成液体。这种方式称为浸没式或者叫湿式。这种方法早已有人提出来了，但他们使用的是油，缺陷很多，无法推广，这个方法就被废弃了。

但这个液体换成水的话，那所有大的问题就不存在了，剩下的小问题都是可接受可改进的。这个方法能很容易地击穿157nm的限制。这里呢，咱们不要暴露这种方法，反而要挖坑，要引导他们相信咱们已经攻克了157nm的光刻机。”

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